Epitaxial Wafer | 台塑勝高科技股份有限公司

来自 : www.fstech.com.tw/products/pro 发布时间：2021-03-24

所謂的磊晶矽晶圓片(Epitaxial Wafer)是指在一拋光晶圓片(在此稱為基板，英文為Substrate)所長出的一層單結晶薄膜而這層薄膜會在某一個平面之上進行規則排列的成長行為，而Epitaxy來自於希臘文，主要可以分成兩個意思，epi代表在上方，而taxy則是指規則排列，所以就字面意義來看，就叫磊晶。本公司目前是利用化學氣相沉積法(Chemical Vapor Deposition，簡稱CVD)來製造磊晶矽晶圓片(Epitaxial Wafer)，磊晶晶圓片早期主要用以改善雙極電晶體(Bipolar transitors)等元件的品質，近年來也普遍被用在Bipolar IC元件及MOS製程上。
磊晶矽晶圓片(Epitaxial Wafer)特性介紹： 目前世界上磊晶技術可以分為很多種類，如下表所示，而本公司是採用化學還原法，也就是俗稱的化學氣相沉積法(Chemical Vapor Deposition，簡稱CVD)來進行磊晶︰

本公司的磊晶矽晶圓片(Epitaxial Wafer)具有下列特性及優點：可進行不同阻抗之單晶成長可進行不同型式的磊晶成長(N型or P型)可得到比液相長晶法更好之結晶層(不純物及結晶排列皆優於液相長晶法)結晶表面加工變形低與液相長晶法相較結晶缺陷較少

所謂的磊晶矽晶圓片(Epitaxial Wafer)是指在一拋光晶圓片(在此稱為基板,英文為Substrate)所長出的一層單結晶薄膜而這層薄膜會在某一個平面之上進行規則排列的成...SUMCO,矽晶圓片,半導體,矽晶圓,矽晶圓片,POLISHED,EP磊晶製程,CZ,FZ,SOI,450mm半導體製品不可欠缺的材料 矽晶圓片。FST可以滿足客戶所有需求、並提供高品質的矽晶圓片。FST的矽晶圓片、也包含了新世代新世代矽晶圓片開發。Epitaxial Wafer